王力元 副教授
1964年出生，1980年入北京师范大学化学系，1987年毕业获物理化学硕士学位，留校在应用化学研究所从事研发工作。1987-1988年间在香港科技大学短期研究工作，1999年开始承担化学系化学专业英语等的教学工作。目前的主要研究领域为:高分子感光成像材料及其在印刷、集成电路加工及光学器件等领域的应用。

近期主持科研课题：
1．193nm光刻胶适用用光产酸剂研制
（国家863重大专项子课题2002AA3Z1330-2， 2002-2005）
2．新型光刻胶研制（横向课题）

近期发表论文与专利：
1．1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯类酸增殖剂的合成和性质研究，感光科学与光化学，2005，23（5）389-393
2．一种适用于193nm光刻胶的硫鎓盐光产酸剂的制备与性质，感光科学与光化学，2005，23（1）48-54
3．A Convenient Method to Measure the Quantity of the Acid Generated by PAGs and Acid Amplifiers，Proc. of SPIE-Advances in Resist Technology and Processing XXII，2005，5753，1049-1056
4．The synthesis and properties of N-hydroxy maleopimarimide sulfonates derivatives as PAGs and inhibitor for deep UV photoresist，Proc. of SPIE-Advances in Resist Technology and Processing XXI，2004，5376，608- 615
5．酸增值剂研究进展 感光科学与光化学 2003，21（4），296-302
6．N-羟基马来海松酸磺酸酯类光产酸剂及其合成方法（发明专利，申请号: 200410039318.7）